世伟洛克® 原子层沉积(ALD)用隔膜阀
世伟洛克 ALD 隔膜阀和用于原子层沉积应用场合获得最佳性能的热执行机构、位置传感器和电磁阀提供超长使用寿命、高速启动特点和高达 0.62 的流量系数。

规格 工作压力 爆裂压力 执行压力 温度 流量系数 阀体材料 隔膜材料 端接 • 类型 • 尺寸

真空到 145 psig (10.0 bar) >3200 psig (220 bar) 50 到 90 psig（3.5 到 6.2 bar） 0 到 200°C（32 到 392°F） 0.27 或 0.62 316L VIM-VAR 不锈钢 Elgiloy® VCR® 面密封接头、卡套管对焊；模块式表面安装 (MSM) 1/4 到 1/2 in.；6 到 12 mm； 1.125 和 1.5 in. MSM

更多信息
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特点

• 常闭和常开气动执行机构。
  • 标准和热执行机构
  • 能够在不到 5 ms 内完成阀门开启或关闭
  • 工厂安装的阀座流量调节机构提供精确、一致的 Cv
• 全封闭式高纯 PFA 阀座具有广泛的化学品兼容性和优异的抗膨胀、防污染能力。
• 完全可清扫流道：
  • 最大程度地减小了截留区
  • 便于清洗
  • 最大程度地提高了流动能力

原子层沉积 (ALD) 隔膜阀工艺规范

• 超高纯，工艺代号 P:超高纯工艺规范 (SC-01)
  • 采用全程监控的去离子水超声波清洁系统进行超高纯清洁
  • 在 ISO 4 级工作区内，使用无尘室包装对每个阀门进行双层包装并真空密封
  • 内外表面 5 µin.(0.13 µm)，机加工和电抛光。

原子层沉积 (ALD) 隔膜阀 测试

• ALD3 常闭：对阀座、壳体和所有密封处进行向内氦气泄漏测试，泄漏率为 1 × 10^–9std cm³/s。
• ALD3 和 ALD6 常开和 ALD6 常闭：经过向内氦气泄漏测试，阀座泄漏率为 1 × 10^–8 std cm³/s，壳体以及所有其它密封处的泄漏率为 1 × 10^–9 std cm³/s。

配置

• 两孔口直通和弯形结构
• 两孔口、三孔口和四孔口多孔口阀和多阀阀组
• 两孔口和三孔口模块式 1.125 in.（仅 ALD3 系列）和 1.5 in 模块化表面安装

选购件

带电子执行机构位置传感器和电磁导向阀的 ALD 阀